ITO，即氧化銦錫(IndiumTinOxide)，是一種N型半導體材料，由90%in2o3和10%sno2混合而成，具有高導電率、高透光率、高機械硬度和良好的化學穩(wěn)定性。主要通過磁控濺射(物理氣相沉積，PVD)真空鍍膜的工藝制備薄膜。

　　磁控濺射原理：電子高速運行過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子。氬離子在電場的作用下加速轟擊ITO靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的ITO靶原子沉積在基片上成膜。

　　ITO導電膜是智能調光、電致變色、觸控顯示、電磁屏蔽、光伏電池等領域透明電極較常用的薄膜材料。

　　注：可以通過鍍膜組合，實現(xiàn)基材的顏色調節(jié)，也可以實現(xiàn)對紅外線的反射功能。

　　加反射鍍層的調光膜遮陽系數(shù)0.12-0.6之間調節(jié)，傳熱系數(shù)降低0.4。